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[供應]供應江蘇芯片鈀材清洗超純水設備|半導體材料高純水設備
- 產品產地：江蘇
- 產品品牌：
- 包裝規(guī)格：全自動
- 產品數量：100
- 計量單位：臺
- 產品單價：86000
- 更新日期：2020-12-23 14:13:16
- 有效期至：2021-12-23
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供應江蘇芯片鈀材清洗超純水設備|半導體材料高純水設備
詳細信息
江蘇芯片鈀材清洗超純水設備|半導體材料高純水設備
聯系電話:18606205762 趙女士QQ:1579724036
芯片封裝生產工藝流程簡介：
（1）芯片：為外購的合格芯片。
（2）磨劃片：首先將藍膜貼在芯片的正面，目的是保護圓片正面的芯片防止擦傷、沾污等。接著利用全自動磨片機對芯片的背面進行研磨處理，使芯片厚度
達到要求。磨片后將藍膜揭除。然后在芯片的背面貼一層藍膜，目的是將芯片固定從而可以進行劃片，并在劃片后分成每顆芯片時不會脫落，以便于下道裝片
工序。接著利用全自動劃片機將晶片分離成單個芯片。在磨劃片過程中會產生熱量，因此需要用純水進行冷卻，同時在磨劃時芯片表面會產生細小微粒，需要
用高純水設備產生高純水進行清洗。
電子級高純水設備工藝流程：
電子級高純水設備工藝介紹：
原水→原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑加藥系統/還原劑加藥系統→保安過濾器→中間水箱→高壓泵1→反滲透裝置1→
中間水箱→PH調節(jié)裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→精密過濾器→EDI電除鹽系統→EDI高純水箱→輸送泵→拋光混床→TOC去除器→
精密過濾器→用水點
注：本系統采用反滲透+EDI處理工藝，主要有四個部分組成，預處理系統、二級反滲透主機系統、EDI電除鹽系統、拋光混床系統；
原水采用自來水通過增壓泵增壓進入石英砂過濾器、活性炭過濾器，去除水中的懸浮物、膠體、有機物及余氯，配套有絮凝劑加藥系統和阻垢劑加藥系統，可有效降低水中渾濁度，防止反滲透膜的結垢，提高反滲透膜的使用壽命；
二級反滲透系統采用美國陶氏反滲透膜技術，自動制膜技術有效保證每支膜的水處理性能。一級反滲透采用BW30-400型號的反滲透膜，該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小，抗污染性能，膜的脫鹽率可以達到99.7%；二級反滲透膜采用BW30-365系列膜，該膜廣泛使用二級反滲透系統中。二級反滲透出水水質電導率可以達到4微西門子以下；
EDI電除鹽系統采用原裝進口西門子模塊，EDI作為綠色脫鹽模式，具有以下優(yōu)點：占地面積省、運行成本低、系統設計簡單、水質穩(wěn)定、安裝維修簡便、綠色環(huán)保，不需要酸堿再生、可實現連續(xù)生產。EDI出水電阻率可以達到15~17兆歐；
拋光混床系統采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級樹脂，拋光混床作為制取超純水的核心部件，經處理后出水可以達到18兆歐以上，滿足微電子行業(yè)用水要求；
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