真空鍍鋁膜裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到１．３×１０－２～１．３×１０－３Ｐａ，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在１２００℃～１４００℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在２５～５００ｎｍ，鍍鋁薄膜的寬度為８００ｍｍ～２０００ｍｍ。