603-III 高真空磁控濺射設(shè)備

型號(hào)：603-III
地點(diǎn)：美國(guó)
狀態(tài)：AS IS，WHERE IS （我們提供翻新、安裝、保修服務(wù)，額外收取合理費(fèi)用
包裝：賣(mài)方負(fù)責(zé)（如果需要）
保修/退款：無(wú) 說(shuō)明：Inline Sputtering System
真空系統(tǒng)：Cryo Pumped ，Vacuum System CTI CryoTorr 8 with CTI 8500 Series Compressor， Leybold D60A Roughing Pump
Target尺寸：4 3/4" x 14 7/8"
DC陰極數(shù)量：3
RF陰極數(shù)量：0
RF刻蝕陰極數(shù)量：1
工藝氣體數(shù)量：1
殘余氣體分析儀：0
DC Power：10.00 kW DC （MRC制造）
RF Generator：1500 Watts（MRC制造）
RF Matching Network：包括
其他信息：Controller:
? Analog closed-loop control and monitored by microcomputer
? Process is fully automatic
? Process parameters are accomplished via keyboard entry and displayed on CRT
Substrate pallet size: 13" x 13"
Pallet carrier: Chain drive. Speed adjustable from 39.3"/min to 120"/min
Quartz substrate heater adjustable to 600 C.
INSET DC cathodes
Facilitiy Requirements
? Water: 4.0 gpm， 70 psig， 60 degrees F
? Air: 70-100 psig， filtered， 1 cfm.
? Sputtering gas: 3-5 psig
動(dòng)力要求： 208 V 60 Hz 3 Phase
尺寸：
Width 78.000 in (198.1 cm)
Depth 56.000 in (142.2 cm)
Height 72.000 in (182.9 cm)
重量： 2，288 lb (1，038 kg)
如果對(duì)此設(shè)備有興趣，請(qǐng)郵件聯(lián)系我們。
 

廣州譚美電子科技有限公司（www.tanmytech.com）（ sales@tanmytech.com）代理多家美、歐一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司的產(chǎn)品，公司主要經(jīng)營(yíng)高真空磁控濺射設(shè)備、量測(cè)設(shè)備、涂膠顯影設(shè)備、PECVD設(shè)備、RIE/ICP/DRIE深刻蝕設(shè)備、電子掃描顯微鏡、快速退火、等離子去膠、等離子刻蝕、電子束蒸發(fā)、濕法工藝設(shè)備。

我們擁有廣泛的采購(gòu)網(wǎng)絡(luò)、強(qiáng)大的專(zhuān)業(yè)設(shè)備服務(wù)隊(duì)伍、先進(jìn)的質(zhì)量檢驗(yàn)檢測(cè)手段和國(guó)際領(lǐng)先的軟件開(kāi)發(fā)和升級(jí)技術(shù)，可為客戶提供各類(lèi)進(jìn)口半導(dǎo)體設(shè)備及備品備件、并提供長(zhǎng)期優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)及技術(shù)支持保障。通過(guò)技藝精湛的設(shè)備生產(chǎn)、翻新，保證我們的設(shè)備具有出色的運(yùn)作表現(xiàn)，能夠滿足客戶的多種需求，降低客戶的生產(chǎn)成本。
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經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：

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