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深圳市奧斯微光學(xué)儀器有限公司

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[供應(yīng)]表面輪廓儀可用來(lái)測(cè)量固體表面粗糙度
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  • 更新日期:2014-09-29 09:11:19
  • 有效期至:2015-09-29
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表面輪廓儀可用來(lái)測(cè)量固體表面粗糙度 詳細(xì)信息

表面輪廓儀可用來(lái)測(cè)量固體表面粗糙度
表面輪廓儀
一?測(cè)試目的︰
1. 量測(cè)固體表面粗糙度。
2. 量測(cè)鍍膜厚度。


二?樣品準(zhǔn)備須知及注意事項(xiàng)︰
1. 樣品量測(cè)前必須事先乾燥。
2. 試片表面須清潔。
3. 更換試片時(shí),探針必須先升起,避免碰觸到探針


三?限制︰
1. 僅能使用于片狀或塊狀之試片。
2. 避免在受外力振動(dòng)的環(huán)境下操作。
3. 較軟材質(zhì)不宜量測(cè)


當(dāng)材料受到高能量的EUV 光照射下,物質(zhì)會(huì)產(chǎn)生光游離、光解離反
應(yīng),產(chǎn)生小分子、離子或是自由基等碎片,這些碎片脫離材料表面,即
所謂的釋氣,此為EUV 微影制程中特有的問(wèn)題。光阻釋氣的問(wèn)題一直被
視為可能是EUV 微影中www.aosvi.com 最大的光學(xué)元件污染源之一。在過(guò)去 DUV 的世
代當(dāng)中,DUV 光阻的主要光吸收?qǐng)F(tuán)為光酸產(chǎn)生劑,其主要的光化學(xué)反應(yīng)
途徑為產(chǎn)生光酸,故DUV 世代光阻釋氣并非核心關(guān)鍵的問(wèn)題。
在EUV 照射后,光阻材料由表面脫附的研究,2007 年Barkusky 的
研究團(tuán)隊(duì)以不同能量的EUV 脈沖雷射研究PMMA 光阻,發(fā)現(xiàn)PMMA 光
阻經(jīng)高能照射后會(huì)有剝蝕現(xiàn)象,其剝蝕速率為0.008 nm cm
2 mJ-1。14

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